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高効率/高電圧/スイッチモード電源にGaN FETを適用する理由と方法 (Digi-Key社【アプリケーションラボ】技術解説記事のご紹介)

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No.1721 2023. 5. 2
◇高効率/高電圧/スイッチモード電源にGaN FETを適用する理由と方法 (Digi-Key社【アプリケーションラボ】技術解説記事のご紹介)

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  高効率/高電圧/スイッチモード電源にGaN FETを適用する理由と方法 (Digi-Key社【アプリケーションラボ】技術解説記事のご紹介)  
 
 「アプリケーションラボ」は、Digi-Key社のご協力をいただいて、Digi-Key社が公開している新製品や技術情報を日本語でご紹介するWebページです。基礎技術から最新技術まで有益な情報を公開していますので、是非ご活用ください。

 今回は、電力変換効率の高いGaN FETの特長とNexperia社のGaN FETの使い方について解説した記事をご紹介します。

高効率/高電圧/スイッチモード電源にGaN FETを適用する理由と方法

 現在は、電気自動車(EV)の開発ならびに電力需要の増加に対処するため、電力変換効率の高い半導体が求められています。しかし、従来のシリコン(Si)ベースの半導体の性能は理論限界に近づいていて、現在以上に性能を上げることが難しくなっています。そこで、注目されて開発が進んでいるのが、シリコンカーバイド(SiC)や窒化ガリウム(GaN)などのワイドバンドギャップ材料を用いた半導体です。

 バンドギャップは、電子を価電子帯から伝導帯に励起させるのに必要なエネルギーです。Siの場合は1.1eV(電子ボルト)ですが、SiCは3.3eV、GaNは3.4eVという高い値を示し、Siに比べて大幅に高い電圧、高い周波数、高い温度で動作させることが可能になります。さらにスイッチング損失や伝導損失も低く、伝導特性とスイッチング特性はSiのおよそ10倍優れています。


HEMT構造のGaN FETの断面図
 
 GaN FETは、SiのMOSFETの生産設備を利用することが可能でコスト面でも有利です。また、GaNは化合物半導体なのでHEMT(High Electron Mobility Transistor:高電子移動度トランジスタ)構造にすることができます。

 HEMT構造は、絶縁層となるGaN層の上に第2層となるAlGaN層を形成することで、AlGaNの下に発生する電子の移動路をGaN層に形成します。HEMT構造では、不純物がないGaN層を電子が移動するため電子移動度が非常に高速になり、高速なスイッチングが可能になります。なお、HEMTは1979年に富士通の三村高志氏が発明しました。


NexperiaのGaN FET
 
 【アプリケーションラボ】では、Siに替えてワイドバンドギャップ材料を採用するメリットやGaN FETの構造と特長などについて解説した後、Nexperia社製のGaN FETを使用したハーフブリッジパワー回路の設計法を紹介しています。Nexperia社は、2017年に中国国営の投資会社JAC Capitalが、NXP Semiconductors社のスタンダードプロダクト事業部を買収して設立された企業です。オランダのナイメーヘンに本社を置き、ディスクリート、汎用ロジック、MOSFETを主力製品にしています。

 GAN063-650WSAGAN041-650WSBは、650V耐圧でノーマリオフのNチャンネルGaN FETです。パルス状の過渡電圧には800Vまで耐えられます。GAN063-650WSAのドレイン-ソース間オン抵抗は50mΩ(最大60mΩ)、定格ドレイン電流は34.5A、最大許容損失は143Wです。また、GAN041-650WSBのドレイン-ソース間オン抵抗は35mΩ(最大41mΩ)、定格ドレイン電流は47.2A、最大許容損失は187Wです。

 ここで解説されているデバイスは、マルツオンラインのウェブサイトで購入できますので、是非参考にしてください。

Nチャンネル GaN FET (650V/60mΩ)
【GAN063-650WSAQ】
ドレイン~ソース間電圧:650V / 電流:34.5A / 駆動電圧:10V / On抵抗:60mΩ(最大) / パッケージ:TO-247
 単価:¥3,972 (税込)

Nチャンネル GaN FET (650V/41mΩ)
【GAN041-650WSBQ】
ドレイン~ソース間電圧:650V / 電流:47.2A / 駆動電圧:10V / On抵抗:41mΩ(最大) / パッケージ:TO-247
 単価:¥3,457 (税込)

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振動情報をIoTデバイスで可視化 【LP46:IoT回路編】

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